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XAU-4C 镀层膜厚分析仪

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XAU-4C 镀层膜厚分析仪
XAU-4C 镀层膜厚分析仪
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XAU-4C 镀层膜厚分析仪
访问量 : 372
编辑时间 : 2019-12-11
信息标签 : 镀层膜厚分析仪

XAU-4C 镀层膜厚分析仪性能优势:

1.微小样品检测:最小测量面积0.03mm²(加长测量时间可小至0.01mm²)

2.变焦装置算法:可改变测量距离测量凹凸异形样品,变焦距离可达0-30mm

3.独创的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂镀层,多层多元 素,甚至有同种元素在不同层也可精准测量。   

4.先进的解谱技术:减少能量相近元素的干扰,降低检出限。   

5.高性能探测器:SDD硅漂移窗口面积25mm²探测器。   

6.X射线装置:微焦加强型射线管搭配聚焦装置。 

 

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XAU-4C 镀层膜厚分析仪先进的EFP算法

       专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上,多元迭代开发出EFP核心算法,结合光路转换的专利技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统,只需要少量的标样来校正仪器因子,可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。

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